会社名

三菱ケミカル株式会社

会社概要

機能商品、素材他

ポジション

【茨城】次世代パワー半導体GaNの結晶成長開発担当者（リーダー、セクションリーダー候補）

仕事内容

【職務概要】
当社独自のGaN（窒化ガリウム）単結晶基板製造技術「SCAAT-LP（低圧酸性アモノサーマル法）」のリーダーとして、の液相法による結晶成長技術開発をリードしていただきます。
SCAATは、高温高圧の超臨界アンモニア中で結晶を成長させる液相成長法で、低欠陥・高品質なGaN基板を実現できる技術です。共同開発先の設備メーカーや国内外の会社、大学、研究機関とも連携しながら、量産化に向けた技術課題の解決を推進いただきます。

具体的には、以下業務項目を担当いただきます。

＜担当業務項目＞
・液相成長（SCAAT）による化合物半導体単結晶基板の技術開発、および開発テーマの推進
（ご経験に応じてご依頼する業務）
　・チームメンバーの業務管理と育成
　・共同開発先との技術協議・調整

＜ミッションテーマ例＞
・欠陥密度の低減、不純物の低減　
・成長速度の制御、生産性・歩留まりの改善　
・大口径化（6～8インチ）に向けた技術開発
・安定製造技術の確立と製造部門への技術移管

【配属部署の紹介】
配属部署では、HVPE法（気相成長）とSCAAT（液相成長）の両方式でGaN基板の研究開発を行う組織です。SCAATの開発は、関東事業所（筑波）（研究開発）、共同開発先の大型設備による拠点（実証）等で役割分担して進めており、本ポジションは関東事業所（筑波）の研究開発をとりまとめていただく予定です。キャリア入社者も多く、それぞれの専門性を活かして活躍しています。

【魅力・やりがい】
・「GaN」基板の安定供給体制を構築するとともに、近年需要が増加するパワーデバイス用途に適用可能な６～８インチ基板の開発にも取り組んでいます。レーザーダイオード等のオプトエレクトロニクス用途、パワーエレクトロニクス用途、いずれも成長が続いており投資を継続しています。未来の社会を支える材料として重要な位置づけを持つ高品質な「GaN」基板の供給を通じ、燃費・発電効率向上といったエネルギーミニマム社会への貢献に携わることができます。
・SCAATは国内では当社のみが手掛ける技術です。高耐圧の縦型パワーデバイスをはじめ、当社の基板でなければ実現が難しい用途があることを、お客様からも評価いただいています。品質面の優位性を活かし、コスト・生産性の課題を突破できれば大きな市場が開ける段階にあり、その突破を担っていただきます。世界でも限られた企業しか持たないオンリーワン技術を、自らの手で事業として確立していく、ライフワークになり得るテーマです。

【身につくスキル・キャリアイメージ】
入社後は、既存メンバーのサポートを受けながらSCAAT技術を習得し、開発を担っていただきます。結晶工学分野における社内外の最新の技術動向に触れ、自社・自身の技術と融合することで、難易度が高い課題を解決するスキルを、全社の重点領域で発揮頂くことを期待しています。将来的には、SCAAT開発全体を牽引する立場を担っていただくことを期待しています。

【仕事の特徴】
・検討機会を最大限に活かすため、事前の仮説構築と条件設計が成否を分けます。
・腰を据えてデータと向き合い、じっくり考えることができる環境です。

【募集背景詳細】
GaNはパワー半導体デバイス材料として、MCCとして半導体分野の中でも戦略的に拡充していくべき技術領域であり、GaN基板事業の拡大・次世代製品の開発強化に伴う募集です。

【将来的に従事する可能性のある職務内容】
会社の定める職務

求める経験・スキル

【必須条件】
・学歴：4年制大学卒程度以上
・専攻：結晶成長、結晶工学、無機材料合成、生産技術、分析・物性いずれか
・経験職種（年数）／経験内容：結晶成長（バルク単結晶・エピタキシャル成長など、手法・材料は問わない）に関する研究開発または生産技術の実務経験（5年以上）
・その他：研究開発テーマまたはプロジェクトを中心となって推進した経験

【歓迎要件】
・学歴：博士号
・専攻：結晶工学に関する分野の博士号、またはそれに準ずる結晶工学分野での学術経験(大学での研究テーマ、留学経験）を有すること。
・経験業界（年数）：半導体基板・化合物半導体・単結晶材料メーカーでの就業経験（3年以上）
・経験職種（年数）／経験内容：半導体基板の成長技術開発経験、結晶成長、結晶工学、無機材料合成、生産技術、分析・物性のいずれかの分野の研究開発経験、ソルボサーマル法による単結晶成長技術で複数の量産立ち上げ実績。
・経験補足：化合物半導体事業、電子デバイス事業の基本的な理解。半導体基板メーカー経験者、SiC基板成長経験者歓迎。
・語学力：英語